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激光二极管芯片的光沿着平行于下台阶面13表面的方向发出，并通过安装在下台阶面13上的棱镜，将光路折射出去。改变了激光二极管芯片光路输出的角度，通过调整棱镜角度，激光二极管芯片的输出光路角度可调。基于相同的构思，本发明还提出了一种激光二极管光路发射系统，激光二极管芯片安装系统的结构示意图如图7所示，包括光器件壳体6、棱镜7和激光二极管芯片安装装置，激光二极管芯片安装装置包括棱镜3、上述任一技术方案中所述的激光二极管芯片安装基板1，棱镜3安装在下台阶面13上以后，焊接在au镀层（第二镀层）122上的激光二极管2发出的光可以入射到棱镜3中，并形成光路5。安装装置放置在光器件壳体6内部，棱镜7嵌入在光器件壳体6中，无锡销售蓝光激光二极管数量，安装装置形成的光路5通过棱镜7，输出激光二极管光路到发射系统的外部。实施例2实施例2与实施例1的区别在于，用于老化的第四镀层131和第五镀层132没有印制在下台阶面13上，而是印制在上台阶面12上，用于老化镀层印制在上台阶面12上的示意图如图8所示，无锡销售蓝光激光二极管数量。第四镀层131和第五镀层132分别印制在上台阶面12的两端。实施例2中其他部件的结构与实施例1相同，无锡销售蓝光激光二极管数量，此处不再赘述。以上为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明。苏州红光激光二极管哪家好，选择无锡斯博睿科技有限公司。无锡销售蓝光激光二极管数量
本发明涉及半导体发光二极管领域，尤其涉及一种激光二极管及其制作方法。背景技术：gan基的发光二极管和激光二极管已经取得了研究和市场应用；特别是在激光显示和激光投影，例如gan蓝色和绿色激光二极管(英文为laserdiode,简称ld)，激光二极管的结构主要是边发射脊波导结构。激光二极管采用边发射脊波导结构，需要在bar两端镀上分布式布拉格反射镜(distributedbraggreflection，dbr)制作法布里-珀罗(f-p)腔形成共振；常规腔面都是直角形状造成边角的dbr覆盖不好，应力大易破裂，侧镀的dbr又会影响到ld的共晶，从而影响电性。技术实现要素：鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的至少在于提供一种激光二极管及其制作方法，旨在解决垂直腔面造成边角的dbr覆盖不好，侧镀的dbr又会影响到ld的共晶，从而导致的ld电性不良。为实现上述目的及其他相关目的，本发明的一个实施方式提供一种激光二极管，包括：衬底，以及位于衬底上的堆叠层，所述堆叠层包括：n型层，活性层，表面具有脊状条的p型层以及dbr覆盖层；所述脊状条的端面为斜面，所述脊状条与所述dbr覆盖层的接触面包括斜面。可选地，所述斜面与脊状条的下表面的法向方向之间的夹角介于：大于0度且小于等于60度。可选地。无锡QSI绿光激光二极管江苏红光激光二极管选择哪家，推荐无锡斯博睿科技有限公司。
在某一实施方式中，脊状条与衬底采用不同的槽体进行劈裂，得到部分斜角的双边楔形楔形激光二极管。具体来说，比如在脊状条上制作开口倒梯形凹槽，而在衬底上制作v字型凹槽，此后沿着前述槽体中间垂直劈裂，形成倾斜端面。这样可以进一步地增加本发明所述方法在实际应用中的适应范围。本发明实施方式提供的上述技术方案，不能够更简易的制作出ld的dbr陪条；而且能够有效解决传统垂直腔面由于的dbr覆盖不好、应力大易断裂、侧镀的dbr又会影响到ld的共晶所导致的ld电性不良的技术问题；此外由于刻蚀掉端面的部分接触层改善断面dbr的覆盖，降低接触面附近的电流密度，改善ld的抗光学灾变损伤能力。上述实施例例示性说明本发明的原理及其功效，而非用于限制本发明。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本发明的权利要求所涵盖。
熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点及功效。须知，本说明书附图中所绘示的结构、比例、大小等，均用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本发明可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本发明所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本发明所揭示的技术内容所能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“正面”、“背面”、“中间”及“一”等的用语，亦为便于叙述的明了，而非用以限定本发明可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本发明可实施的范畴。如图1-2所示，本发明的一个实施例提供一种激光二极管，包括：衬底3，以及位于衬底上的堆叠层，所述堆叠层包括：n型层4，多重量子阱(英文multi-quantumwell,简称mqw)活性层5，表面具有脊状条2的p型层6以及dbr覆盖层8；所述脊状条的端面为斜面7，所述脊状条与所述dbr覆盖层的接触面包括斜面7。如图5所示，所述端面是所述脊状条沿长度(l1)方向上的两端的端面，斜面与脊状条2的宽边w1平行或所述脊状条的宽边位于所述斜面上。红光激光二极管选择哪家，选择无锡斯博睿科技有限公司。
DFB-LD多采用Ⅲ和Ⅴ族元素组成的三元化合物、四元化合物，在1550nm波段内，**成熟的材料是InGaAsP/InP。新型AIGaInAs/InP材料的研发日趋成熟，国际上*少数几家厂商可提供商用产品。优化器件结构，有源区为应变超晶格QW。有源区周边一般为双沟掩埋或脊型波导结构。有源区附近的光波导区为DFB光栅，采用一些特殊的设计，如：波纹坡度可调分布耦合、复耦合、吸收耦合、增益耦合、复合非连续相移等结构，提高器件性能。生产技术中，金属有机化学汽相淀积MOCVD和光栅的刻蚀是其关键工艺。MOCVD可精确控制外延生长层的组分、掺杂浓度、薄到几个原子层的厚度，生长效率高，适合大批量制作，反应离子束刻蚀能保证光栅几何图形的均匀性，电子束产生相位掩膜刻蚀可一步完成阵列光栅的制作。1550nmDFB-LD开始大量用于622Mb/s、2.5Gb/s光传输系统设备，对波长的选择使DFB-LD在大容量、长距离光纤通信中成为主要光源。苏州激光二极管推荐哪家，选择无锡斯博睿科技有限公司。无锡销售蓝光激光二极管参考价
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接触面包括斜面，该结构为单边楔形的激光二极管。单边解决了由于现有的腔面的直角形状造成的边角的dbr覆盖不好、应力大易破裂，侧镀的dbr又会影响到ld的共晶从而影响ld的电性。在某一实施方式中，所述斜面与脊状条的下表面的法向方向之间的夹角介于：大于0度且小于等于60度。这个角度范围能够保证dbr很好的覆盖在所述脊状条上且不易脱落。如图1与3所示，在某一实施方式中，所述衬底的端面为第二斜面，所述衬底与所述dbr覆盖层的接触面包括第二斜面9。所述的端面位于所述衬底的背面、是所述衬底沿所述脊状条长度的方向上的两端的端面。此处所述的背面是相对于正面而言，而正面是用于外延生长对叠层的那一面。此结构为双边楔形激光二极管，斜面与第二斜面形成双边斜面结构，使得dbr覆盖层在衬底上的覆盖性更好，不易脱落，从而保证了ld的良好电性。在某一实施方式中，所述第二斜面与所述衬底的上表面的法向方向之间的夹角介于：大于0度且小于等于60度。这个角度范围能够保证dbr很好的覆盖在衬底上且不易脱落。在某一实施方式中，所述斜面位于所述p型层上。且斜面在制作过程中，斜面不延伸进入mqw活性层。在某一实施方式中，所述n型层包括n型金属层41。无锡销售蓝光激光二极管数量
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